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SPETTROSCOPIA FOTOELETTRONICA
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hn + A -> A* hn + A -> A+ + e- I/ Ass. corrente A+ + e A* n
Atomo + hn –> assorbimento - ionizzazione: hn + A -> A* hn + A -> A+ + e- n I/ Ass. Limite di ionizzazione corrente A+ + e A* A
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EFFETTO FOTOELETTRICO
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Energie degli orbitali Limite di ionizzazione
Ecin hv Limite di ionizzazione e- e- + e- e- + Livelli energetici degli orbitali molecolari e- e- +
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Energie degli orbitali Limite di ionizzazione
Ecin hv Limite di ionizzazione e- e- + e- e- + Livelli energetici degli orbitali molecolari e- e- +
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Energie degli orbitali Limite di ionizzazione
KE hv Limite di ionizzazione e- e- + e- e- + Livelli energetici degli orbitali molecolari e- e- +
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Energie di ionizzazione = energie degli orbitali
← Energia di ionizzazione + e-
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UV RAGGI X Effetto fotoelettrico Raggi X o elettroni ad alta energia
Fluorescenza X Processo Auger
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Spettroscopia fotoelettronica
Ionizzazione di un campione di molecole con h » I produce ioni con una distribuzione di energie interne (nessuna condizione di risonanza) Gli elettroni emessi hanno un intervallo di energie cinetiche tali che Ecinetica(e-) h - I – Eion Tipicamente si usa h = eV (He I) h = eV (He II) Per la maggior parte delle molecole I 10 eV (1 eV = 8065 cm-1)
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Spettroscopia fotoelettronica
Ecinetica(e-) h - I - Eion Ecinetica=E(e-) Eione h La misura dello “spettro” delle energie dei fotoelettroni fornisce una mappa degli stati energetici dello ione molecolare I
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CONDIZIONI DI ULTRA ALTO VUOTO
Pressione Torr Grado di vuoto Rimuove i gas adsorbiti dal campione Elimina l’adsorbimento di contaminanti sul campione Aumenta il libero cammino medio per gli elettroni 10 2 Vuoto basso 10 -1 Vuoto medio 10 -4 Alto vuoto 10 -8 Ultra-alto vuoto 10 -11
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SORGENTE RIVELATORE UV UPS Ultraviolet Photoelectron Spectroscopy
X XPS X-ray Photoelectron Spectroscopy ESCA Electron Spectroscopy for Chemical Analysis RIVELATORE A griglia ritardante A deflessione
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SORGENTI Tubo a raggi X Monocromatore Lampada ad He
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RADIAZIONE DI SINCROTRONE
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RIVELATORI A GRIGLIA RITARDANTE
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RIVELATORI A DEFLESSIONE
La deflessione dell’elettrone dipende dalla velocità con cui è emesso dal campione
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APPARECCHIATURA XPS
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IONIZZAZIONE h assorbimento di un fotone e- collisione con elettroni
A* collisione con atomi in stati eccitati: ionizzazione Penning
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SPETTRI Energia di ionizzazione Intensità Distribuzione angolare
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TEOREMA DI KOOPMAN L’energia di ionizzazione di un elettrone emesso è uguale all’energia dell’orbitale da cui proviene l’elettrone
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POSIZIONE DELLE LINEE
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INTENSITA’ DELLE LINEE
Non ci sono regole di selezione Intensità dipende solo dalla molteplicità dei livelli
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Spettro fotoelettronico di atomi
Ar 1s2 2s2 2p6 3s2 3p S Primo stato ionico per rimozione di un elettrone 3p 1s2 2s2 2p6 3s2 3p P1/2 e 2P3/2 2P1/2 2P3/2 Energia 1S
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H2
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HBr Prima banda Seconda banda
Separazione per accoppiamento spin-orbita Struttura vibrazionale ridotta: elettroni di non legame Seconda banda Struttura vibrazionale marcata: elettroni di legame
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H2O
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N2 N2(u2u4g2) N2+(u2u4g1) + e- 2g+
N2(u2u4g2) N2+(u2u3g2) + e u N2(u2u4g2) N2+(u1u4g2) + e- 2u+
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SPETTRI XPS ANALISI ELEMENTARE
Be B C N O F 50 110 190 290 400 540 680
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SPETTRI XPS SPOSTAMENTO CHIMICO
400 eV N 2 tipi di atomi di N in rapporto 1 : 2
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SPOSTAMENTO CHIMICO
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SPOSTAMENTO CHIMICO e ELETTRONEGATIVITA’
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SPETTROSCOPIA XPS E STRUTTURA
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BANDE SHAKE-UP SHAKE-OFF
0 1s12s22p6 3 1s12s22p53p1 10 1s12s12p63s1 L’energia di rilassamento è usata per eccitare elettroni nei livelli di valenza verso stati legati shake-up verso stati non legati shake-off
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ORIGINE DELLE BANDE SHAKE-UP E SHAKE-OFF
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STRUTTURA VIBRAZIONALE
SPETTRO XPS E STRUTTURA VIBRAZIONALE
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XPS : tecnica per lo studio delle superfici
Solidi I raggi X penetrano in profondità nel campione, ma gli elettroni che escono sono solo quelli che partono a pochi nanometri dalla superficie. XPS : tecnica per lo studio delle superfici Analisi qualitativa di una superficie Analisi quantitativa Identificazione di contaminanti di una superficie e composizione Studio della composizione in funzione della profondità Catalisi eterogenea Differenze tra struttura della superficie e del campione massivo
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Elettrone Auger fotoelettrone Elettrone secondario Raggi X fluorescenti Profondità di fuga dell’elettrone <5 nm Profondità di fuga dei raggi X > 100 nm
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XPS TECNICA DI SUPERFICIE
L’analizzatore estrae gli elettroni solo da un piccolo angolo solido Scansione della superficie Fascio raggi X Profondità di penetrazione dei raggi X ~1 mm Gli elettroni possono essere eccitati in tutto questo volume 10 nm 1 mm2 Area di eccitazione dei raggi X ~1x1 cm2. Gli elettroni sono emessi da questa area
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Spettroscopia ZEKE ZEro Kinetic Energy Spettroscopia fotoelettronica ad alta risoluzione
Ecinetica(e-) h - I - Eion Invece di usare h fisso e misurare Ecinetica(e-) variabile (scarsa accuratezza, max 32 cm-1), si usa h variabile e si misurano gli elettroni con energia cinetica fissa (zero). Ogni volta che h = I + Eion vengono prodotti gli elettroni “ZEKE” – questo avviene solo a certe frequenze risonanti.
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1 – La molecola neutra M è eccitata ad uno stato di Rydberg molto alto
2 – E’ ionizzata con un campo elettrico 3 – L’elettrone è rivelato vs. h U PES ZEKE 1 fotone ZEKE 2 fotoni Spettro di M+ ad alta risoluzione
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Confronto PES ZEKE HeI PES ZEKE
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Spettroscopia ZEKE La miglior risoluzione per questo metodo è di gran lunga superiore alla PES convenzionale (0.01 meV contro 10 meV tipici per PES convenzionale) E’ possibile la risoluzione della struttura rotazionale, o di strutture vibrazionali congestionate in grandi molecole poliatomiche. Costanti rotazionali di cationi e quindi informazioni strutturali (CH4+, O3+, CH2+, C6H6+, NH4+ : la spettroscopia diretta degli ioni è difficile) In pratica può essere applicata solo in fase gassosa (a diversità della PES convenzionale - solidi, liquidi e superfici).
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Spettroscopia fotoelettronica risolta nel tempo
Spettro fotoelettronico di stati eccitati Si usano due laser, uno per eccitare la molecola per es. allo stato S1, e uno per indurre la ionizzazione da quello stato. Lo spettro fotoelettronico riflette la configurazione orbitale dello stato S1.
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