IMM ISTITUTO PER LA MICROELETTRONICA E MICROSISTEMI (IMM) – CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR) UNITA DI CATANIA Dispositivi di potenza ed iperfrequenza ad alte prestazioni (SiC, GaN) Processi avanzati per tecnologie microelettroniche ultra scalate (giunzioni sottili, metallizzazioni, laser annealing, …) Nuove architetture MOS (memorie a nanocristalli, architetture FINFET, …) Tecniche avanzate di caratterizzazione (microscopia elettronica e microscopie a scansione di sonda) Tecnologie microfluidiche (micro-fuel-cells) Elettronica su plastica Nanotubi di C per elettronica e sensoristica 18 Ricercatori in organico CNR 10Ricercatori con contratto a progetto 13Unità di supporto tecnico e amministrativo 10Tesisti e dottorandi Tematiche di ricerca: Materiali, processi ed architetture per la Microelettronica
IMM FRENDTECHFront end models for silicon future technologyFraunhofer IMPULSEIon implantation at ultra low energy for future semiconductor devicesIMM ADAMANT:Advanced Memories bAsed oN discrete-Traps LETI FLASH: Fundamentals and applications of LASer processing for Highly innovative MOS technology; IMM FINFLASH:FINfet structures for FLASH devicesIMM NUOTO:New materials with ultra high-k dielectric constant for tomorrow wireless electronics;IMM ManSiC:Promoting and structuring a Multidisciplinary Academic-Industrial Networking through the heteropolytype growth, characterization and applications of 3C-SiC on hexagonal substratesIMM Partecipazioni a Progetti Europei V programma quadro VI programma quadro Coordinatore
IMM - Microscopi elettronici in trasmissione e a scansione (risoluzione atomica e contrasto chimico) - Atomic force microscope e spreading resistance profiling - Laboratorio di foto- ed elettro-luminescenza - Laboratorio per la caratterizzazione elettrica di materiali e dispositivi - Impiantatore TANDEM da 1.7 MV -Sistemi per deposizione di film sottili (Evaporatore e Sputter in UHV) - Inductive coupled plasma (ICP) etcher - Clean Room (classe 10) su 100 m 2 - Nano-imprinting lithography - Litografia laser a scrittura diretta - Forni per Spike and Laser Annealing - Processing su Carburo di Silicio (alta temperatura) - Laboratorio chimico per Si-micromachining
IMM Numero di pubblicazioni e di citazioni di IMM, dallanno della costituzione dellIstituto al Marzo 2007, tratto dalla banca dati ISI Web of Science. Il numero medio di citazioni per pubblicazione e lindice h di Hirsch sono riportati nella parte destra della figura.